記事 ID: 000076045 コンテンツタイプ: トラブルシューティング 最終改訂日: 2021/08/28

Altera製造中に化学機械のアンリズナイゼーションを使用して集積回路 (IC) の表面を分解しますか?

環境

BUILT IN - ARTICLE INTRO SECOND COMPONENT
詳細 はい。Alteraは、製造中に化学機械の殺菌を使用して IC 表面を加工します。

シリコン・ウエハーの化学メカニカル・チーミング化は、複数層 IC の処理における重要なステップです。 厚さ 5 μm 未満の素材を使用した IC の製造に使用されます。この磨き上げプロセス 非常に微細な粒子を含む液体スラインを使用して、シリコンウエハーの表面をスメライズします。

ウエハーの上部をコーティングし、ウエハーと柔軟な円形の間に押し込まれます。 回転パッドは、車の仕上げを磨き上げるのにトローリーバッファーを使用するのと同じです。

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インテル® プログラマブル・デバイス

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